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太赫茲晶體非線性光學(xué)晶體

簡(jiǎn)要描述：LIS太赫茲晶體非線性光學(xué)晶體
LilnS2晶體和硫銦鋰晶體是1-12微米OPO的有效LIS晶體材料,適合用于光學(xué)參量振蕩器OPO和中紅外激光差頻,采用鈦寶石激光泵浦,可獲得1-12 µm中紅外激光輸出。

產(chǎn)品型號(hào)：LIS
更新時(shí)間：2024-12-26
訪問(wèn) 量：758

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產(chǎn)品分類(lèi)

Product classification

太赫茲

太赫茲天線太赫茲元件太赫茲探測(cè)器太赫茲時(shí)域光譜儀 THz TDS 太赫茲晶體太赫茲源太赫茲時(shí)域光譜儀組件太赫茲相機(jī) 太赫茲光電導(dǎo)天線（PCA）太赫茲功率計(jì) 太赫茲近場(chǎng)探針太赫茲頻域光譜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

品牌	其他品牌	產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域	電子

詳細(xì)介紹

LIS太赫茲晶體非線性光學(xué)晶體

LilnS2晶體和硫銦鋰晶體材料,適合用于<span font-size:14px;background-color:#ffffff;"="" style="font-family: Arial;">光學(xué)參量振蕩器OPO和中紅外激光差頻,采用鈦寶石激光泵浦,可獲得1-12 µm中紅外激光輸出。

主要特性

型號(hào)

LIS

透光范圍0.35-13.2

非線性系數(shù), ?	1064 nm SHG的基頻（x-y, Type II, eoe	1.78 – 8.22
y-z, Type II, oeo	2.35 – 2.67
y-z Type II, oeo	5.59 – 6.11
Total interval covered	1.617 – 8.71

光學(xué)損傷閾值1064 nm
k, WM/M°C

0.2透光水平下遠(yuǎn)紅外的吸收邊緣

arc min

arc sec

λ/6@546nm

表面質(zhì)量30/20

1.使用泵浦鈦藍(lán)寶石激光器，進(jìn)行光學(xué)參量振蕩（OPO）可獲得1-12 µm中紅外激光輸出。
2.中紅外范圍（2-12 µm)內(nèi)不同頻率產(chǎn)生。

3.我們能夠根據(jù)客戶的要求和反射率曲線提供適當(dāng)?shù)姆婪瓷?保護(hù)等涂層。

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